| 专利名 | 常温面源黑体有效发射率均匀性校准方法 |
| 行业分类: | 电子信息 |
| 简介: | "本发明公开了一种常温面源黑体有效发射率的均匀性校准方法，属于红外光学计 量测试领域。该方法通过镓熔融点黑体的熔融温度、铟凝固点黑体的凝固温度来校准变温 标准黑体，从而获得变温标准黑体在常温范围内的有效发射率-温度关系曲线，据此再用变 温标准黑体校准并测量常温面源黑体的有效发射率，进而通过移动精密二维平台来校准面 源黑体在常温下各点的有效发射率及其均匀性。本方法在完成对变温标准黑体有效发射率 量值溯源的基础上，实现了对大面积常温面源黑体各点有效发射率的标定，能准确地解释 待标常温面源黑体的温度与有效发射率之间的相关性。本发明具有校准省时、校准数据准 确而可靠的特点。" |
| 专利号: | 201010051421.9 |
| 申请(专利权)人: | 西安应用光学研究所 |
| 专利提供单位: | |
| 专利类型: | 发明专利 |
| 法律状态: | 有权 |
| 合作方式: | |
| 参考价格: |
