| 专利名 | 一种利用高密度等离子体反应刻蚀硫化锌材料的方法 |
| 行业分类: | 化工冶金 |
| 简介: | 本发明公布了一种利用高密度等离子体反应刻蚀硫化锌材料的方法，采用感应耦 合等离子( ICP )设备，利用CH4/H2/Ar气体感应耦合电离产生的活性高密度等离子体，反应刻 蚀ZnS材料，其特征在于，将带阻挡层刻蚀窗口图形的ZnS基片(或带ZnS膜层的基片)置于感 应耦合等离子设备的反应腔内，利用电离产生的高密度等离子体与ZnS材料进行反应，刻蚀 产生的可挥发性产物通过抽真空设备排出，从而将阻挡层刻蚀窗口图形转移到ZnS材料上。 本发明可以解决ZnS材料腐蚀过快、钻蚀明显、均匀性差、工艺重复性较差等问题，有效提高 器件性能及集成度。 |
| 专利号: | 201010051780.4 |
| 申请(专利权)人: | 中国空空导弹研究院 |
| 专利提供单位: | |
| 专利类型: | 发明专利 |
| 法律状态: | 有权 |
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| 参考价格: |
