| 专利名 | 高精度激光陀螺腔体化学抛光工序中的清洗方法 |
| 行业分类: | 化工冶金 |
| 简介: | 本发明属于微晶玻璃光学冷加工(铣、磨等)表面化学抛光(化学刻蚀)后清洗技 术，涉及对名称为《高精度激光陀螺腔体化学抛光方法》(申请号为200510001541 .7 )国防专 利申请的改进。它包括化学抛光步骤，在化学抛光步骤后，用压强为0 .3MPa～0 .5MPa的高压 自来水射流清洗毛细孔2min～4min，然后吹干；重复上述过程直至满足化学抛光时间。本发 明方法使被抛光面的亮度及粗造度( Ra )显著提高，可从0 .3微米提高至0 .1微米；在同样的 条件下，化学抛光后表面粗糙度Ra和亮度比俄罗斯有了较大幅度的提高，目视基本达到美 国陀螺水平。 |
| 专利号: | 200710081296.4 |
| 申请(专利权)人: | 中国航空工业第六一八研究所 |
| 专利提供单位: | |
| 专利类型: | 发明专利 |
| 法律状态: | 有权 |
| 合作方式: | |
| 参考价格: |
